2019年5月28日火曜日

高温下でも高信頼性のLDMOSプロセス技術を開発

新開発更新されましたMay 28, 2019 at 11:55AM
【外部リンク】

高温下でも高信頼性のLDMOSプロセス技術を開発

東芝デバイス＆ストレージとジャパンセミコンダクターは2019年5月、高温環境下でも高い信頼性を実現可能な、車載用アナログパワーIC向けプロセス技術を開発 ...
http://bit.ly/2I73Of8
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